Is teicníc thábhachtach í teicneolaíocht sputtering Magnetron a úsáidtear go forleathan le haghaidh modhnú dromchla ábhar agus sil-leagan scannáin tanaí. Mar chroí-chomhpháirt na teicneolaíochta seo, bíonn tionchar díreach ag feidhmíocht agus cáilíocht na spriocanna sputtering magnetron ar shaintréithe agus ar iarratais na scannán tanaí ullmhaithe. Tabharfaidh an t-alt seo réamhrá cuimsitheach agus domhain ar spriocanna sputtering magnetron, lena n-áirítear a sainmhíniú, a n-aicmiú, modhanna ullmhúcháin, riachtanais feidhmíochta, réimsí iarratais, agus treochtaí forbartha sa todhchaí.
Tagraíonn sprioc sputtering Magnetron d'ábhar atá sputtered le adaimh nó móilíní ag cáithníní ard-fhuinnimh le linn an phróisis sputtering maighnéadrón, agus ansin a thaisceadh ar substráit chun foirm scannán tanaí. De ghnáth tá sé comhdhéanta de shubstaintí le comhdhéanamh ceimiceach sonrach agus struchtúir chriostail, mar shampla miotail, cóimhiotail, comhdhúile, etc.
Sreabhadh próiseas sputtering sprioc-ábhar:
Púdar amhábhar - bruithniú púdar - meascadh púdar - múnlú comhbhrú - shintéiriú atmaisféar - próiseáil plaisteach -cóireáil teasa- tástáil ultrasonaic - gearradh uisce - próiseáil mheicniúil - miotalú - ceangailteach - tástáil ultrasonaic - glanadh ultrasonaic - cigireacht - loingsiú.
Is iad seo a leanas bríonna sonracha na bpríomhphróisis:
Bruithniú púdar: déan réamh- shintéiriú atmaisféar ar phúdar amhábhar agus rialaigh an t-ábhar gáis sa phúdar amhábhar.
Meascadh púdar: Tá foirmle uathúil ag an spriocábhar a éilíonn rialú beacht ar ábhar gach comhpháirte agus teorannú dian ar ábhar neamhíonachta. Sa phróiseas miotalóireacht phúdair, is gá na heilimintí go léir a mheascadh go hiomlán go cothrom, le dáileadh aonfhoirmeach méid na gcáithníní chun éilliú a chosc, agus púdar ilchodach measctha a ullmhú trí mhodhanna próisis speisialta.
Múnlú comhbhrú: Teastaíonn réamhbhrú ar an ábhar púdair don spriocábhar a ullmhaítear trí phróiseas miotalóireacht phúdair chun go mbeidh sé ina chorp glas meándlúis. Bíonn tionchar ag aonfhoirmeacht a dhlús agus a lochtanna inmheánacha ar tháirgeacht shintéiriú ardteochta sa chéim níos déanaí.
Sintéiriú an atmaisféir: Caithfidh an corp glas réamhbhrúite dul faoi phróiseas shintéirithe ardteochta amháin nó níos mó. Roghnaítear cuair teochta shintéirithe éagsúla de réir ábhair éagsúla, agus roghnaítear timpeallachtaí shintéirithe éagsúla mar atmaisféar shintéirithe agus brú chun spriocchomhlachtaí ard-dlúis a ullmhú.
Próiseáil plaisteacha: Ní mór dífhoirmiúchán suntasach plaisteach a dhéanamh ar thinní miotail chun dóthain fad, leithead agus toisí tiús a fháil, agus dífhoirmiú teanntachta leordhóthanach a dhéanamh ar na gráinní inmheánacha, rud a ghinfidh go leor díláithrithe taobh istigh. Cóireáil teasa: Tar éis dífhoirmiúchán suntasach plaisteach a dhéanamh, déantar tinní miotail faoi phróisis chóireála teasa a roghnaítear bunaithe ar shaintréithe na n-ábhar éagsúla, rud a fhágann go ndéantar athchriostalú ar an ábhar miotail agus deireadh a chur le strusanna inmheánacha.
Brath locht ultrasonaic: Tar éis an sprioc bán a phróiseáil, ní mór tonnta ultrasonaic a úsáid chun iniúchadh a dhéanamh an bhfuil lochtanna taobh istigh den ábhar. Tar éis an sprioc bán a bheith ceangailte leis an pláta cúil, is gá scanóir ultrasonaic tumoideachais uisce a úsáid chun an ciseal nascáil a bhrath agus seiceáil an gcomhlíonann an limistéar nascáil an caighdeán.
Próiseáil mheicniúil: Ní mór próiseáil fhoirmithe mheicniúil bheacht a dhéanamh ar an spriocfholamh don phláta cúil a úsáidtear in éineacht leis an spriocfholamh. Mar gheall ar chomhordú beacht leis an trealamh sciath agus an cumas fuarú uisce ardbhrú a sheasamh, éilíonn sé cruinneas tríthoiseach an-ard agus neart meicniúil. Tá an deacracht próiseála ard, go háirithe le haghaidh an pláta ar ais le ciorcad inmheánach uisce cúrsaíochta. Mar gheall ar an ábhar speisialta, tá an táthú dúnta ar an gciorcad uisce an-deacair agus éilíonn sé teicneolaíocht táthú speisialta.
Miotalú: Sula ndéanfar an sprioc bán a cheangal leis an pláta tacaíochta, d'fhonn feidhmíocht fliuchtaithe an ábhair sprice agus an mhiotail idir an spriocábhar agus an sádróir a fheabhsú, is gá réamhchóireáil a dhéanamh ar an dromchla nascáil chun é a chóta le ciseal trasdula.
Ceangailteach: Mar gheall ar airíonna fisiceacha nó ceimiceacha teoranta an ábhair, ní féidir an chuid is mó de na spriocábhair a shuiteáil go díreach agus a bhratú lena n-úsáid. Tá gá le sádróir miotail chun an sprioc bán a tháthú agus a nascadh leis an pláta tacaíochta, agus ní mór don ráta nasctha dromchla éifeachtach ráta táthú mór-limistéar os cionn 95% a bhaint amach. Is gá an próiseas iomlán a dhéanamh ag teocht ard agus brú ard.
Aicmiú Sprioc-Ábhair Magnetron Sputtering
1. Spriocábhair miotail: lena n-áirítear sprioc-ábhair miotail íon (cosúil le copar, alúmanam, nicil, etc.) agus spriocábhair cóimhiotail (cosúil le cruach dhosmálta, cóimhiotal alúmanaim, etc.).
2. Spriocábhair chomhdhúile: mar shampla spriocábhair ocsaíd (cosúil le dé-ocsaíd sileacain, ocsaíd alúmanaim, etc.), spriocábhair nítríde (cosúil le nítríde sileacain, nítríd alúmanaim, etc.), spriocábhair chomhdhúile (cosúil le cairbíd sileacain, tungstain. chomhdhúile, etc.), etc.
3. Spriocábhair leathsheoltóra: mar spriocábhair sileacain, spriocábhair gearmáiniam, etc.
Aicmithe de réir struchtúr an ábhair sprice:
1. Ábhar sprice comhréidh: Tá struchtúr simplí planar aige agus úsáidtear é go coitianta i dtrealamh sputtering magnetron traidisiúnta.
2. Ábhar sprice rothlach: Is féidir leis rothlú leanúnach a bhaint amach, feabhas a chur ar ráta úsáide an ábhair sprice agus aonfhoirmeacht an scannáin taiscthe
Ceanglais feidhmíochta maidir le spriocanna sputtering maighnéadrón:
(1) Íonacht
Is féidir le spriocábhair ard-íonachta íonacht agus feidhmíocht scannán tanaí taiscthe a chinntiú. Go ginearálta, is gá go mbeadh íonacht an sprioc-ábhar os cionn 99.9%.
(2) Laghdú dlúis
Is féidir le spriocábhair ard-dlúis éilliú cáithníní a laghdú le linn sputtering agus feabhas a chur ar cháilíocht agus aonfhoirmeacht scannán tanaí.
(3) Comhionannas comhdhéanamh ceimiceach
Ba cheart comhdhéanamh ceimiceach an ábhair sprice a dháileadh go cothrom chun cobhsaíocht an scannáin thaisceadh a chinntiú.
(4) Struchtúr criostail
Cuidíonn struchtúr criostail oiriúnach le feabhas a chur ar éifeachtacht sputtering an sprioc-ábhar agus ar fheidhmíocht an scannáin tanaí.
(5) Cruinneas Toise agus Cruth
Ba cheart go gcomhlíonfadh méid agus cruth an sprioc-ábhar na ceanglais trealaimh chun éifeacht mhaith suiteála agus sputtering a chinntiú.
(6) Cobhsaíocht theirmeach
Le linn an phróisis sputtering, tá an t-ábhar sprioc faoi réir teocht ard agus tionchair cáithníní ard-fhuinnimh, rud a éilíonn cobhsaíocht theirmeach maith.
(7) Friotaíocht creimeadh
Ba cheart go mbeadh leibhéal áirithe friotaíocht creimeadh ag an ábhar sprice chun a shaol seirbhíse a leathnú.
Faoi láthair, le forbairt go mear ar thionscail mar fhaisnéis leictreonach agus fuinneamh nua, tá éileamh an mhargaidh ar spriocanna sputtering magnetron ag fás i gcónaí. Tá ionchais iarratais leathana ag spriocanna sputtering Magnetron, mar chroí-chomhpháirt na teicneolaíochta sputtering magnetron, i dtionscal nua-aimseartha. Le dul chun cinn leanúnach na teicneolaíochta agus forbairt leanúnach na dtionscal, leanfar ag méadú freisin ar na ceanglais feidhmíochta agus cáilíochta do spriocanna sputtering magnetron.
Ardfheidhmíocht: Le feabhas leanúnach ar riachtanais feidhmíochta scannáin i réimsí iarratais, tá ceanglais níos airde curtha ar aghaidh maidir le feidhmíocht spriocanna sputtering maighnéadrón, mar shampla íonacht níos airde, dlús, aonfhoirmeacht, etc.
Éagsúlú: Le teacht chun cinn leanúnach na réimsí iarratais nua, tá cineálacha agus ceanglais feidhmíochta na spriocanna sputtering magnetron ag éirí níos éagsúlaithe freisin, mar shampla spriocanna nua ábhar leathsheoltóra, spriocanna cumaisc nua, etc.
